Ja tiek ieelpots 3-amino-5-merkapto-1,2, 4-triazols, lūdzu, pārvietojiet pacientu svaigā gaisā; saskaroties ar ādu, novilkt piesārņoto apģērbu un rūpīgi nomazgāt ādu ar ziepjūdeni un ūdeni. Ja jūtaties neērti, meklējiet medicīnisko palīdzību; ja jums ir skaidrs acu kontakts, atdaliet plakstiņus, noskalojiet ar tekošu ūdeni vai parasto fizioloģisko šķīdumu un nekavējoties meklējiet medicīnisko palīdzību; norijot, nekavējoties skalojiet skalot, neizraisiet vemšanu un nekavējoties meklējiet medicīnisko palīdzību.

To izmanto, lai sagatavotu fotorezista tīrīšanas šķīdumu

Kopējā LED un pusvadītāju ražošanas procesā fotorezista maska ​​tiek veidota uz dažu materiālu virsmas, un pēc ekspozīcijas modelis tiek pārnests. Pēc nepieciešamā parauga iegūšanas pirms nākamā procesa fotorezista atlikums ir jānoņem. Šajā procesā ir nepieciešams pilnībā noņemt nevajadzīgo fotorezistu, nerūsējot nevienu pamatni. Pašlaik fotorezista tīrīšanas šķīdums galvenokārt sastāv no polārā organiskā šķīdinātāja, stipra sārma un / vai ūdens utt. Pusvadītāju plāksnītes fotorezistu var noņemt, pusvadītāja mikroshēmu iegremdējot tīrīšanas šķidrumā vai pusvadītāja mikroshēmu mazgājot ar tīrīšanas šķidrumu. .

Ir izstrādāts jauna veida fotorezista tīrīšanas šķīdums, kas ir bezūdens zemu kodināšanas mazgāšanas līdzeklis. Tas satur: spirta amīnu, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazolu un blakus šķīdinātāju. Šāda veida fotorezista tīrīšanas risinājumu var izmantot, lai noņemtu fotorezistu LED un pusvadītājos. Tajā pašā laikā tam nav uzbrukuma pamatnei, piemēram, metāla alumīnijam. Turklāt sistēmai ir spēcīga ūdens izturība, un tā paplašina darbības logu. Tam ir laba pielietojuma perspektīva LED un pusvadītāju mikroshēmu tīrīšanas jomā.